Návrh řízení plazmové depozice tenkých vrstev

dc.contributor.advisor	Petrík Stanislav, doc. Ing. CSc. :55508	cs
dc.contributor.author	Šetina, Martin	cs
dc.contributor.referee	Frimmel Jiří, Dr. :68866	cs
dc.date.accessioned	2023-12-09T04:56:40Z
dc.date.available	2023-12-09T04:56:40Z
dc.date.committed	22.5.2023	cs
dc.date.defense	20.6.2023	cs
dc.date.submitted	12.10.2021	cs
dc.description.abstract	Tato práce se zabývá kompletním návrhem a realizací řízení vakuové depoziční komory. Klade si za cíl co nejvíce zmapovat problematiku a navrhnout elektronické řízení, které bude možné snadno přizpůsobovat konkrétním požadavkům výzkumné činnosti v oblasti nanomateriálů a tenkých struktur.	cs
dc.description.abstract	This thesis focuses on the complete design and implementation of control for a vacuum deposition chamber. Its objective is to comprehensively explore the issues and propose electronic control that can be easily adapted to the specific demands of research activities in the field of nanomaterials and thin structures.	en
dc.format	63	cs
dc.identifier.uri	https://dspace.tul.cz/handle/15240/174435
dc.language.iso	CS	cs
dc.subject	RF PACVD	cs
dc.title	Návrh řízení plazmové depozice tenkých vrstev	cs
dc.title	Design of plasma deposition control for thin films	en
dc.type	diplomová práce	cs
local.degree.abbreviation	Navazující	cs
local.identifier.author	M20000189	cs
local.identifier.stag	43398	cs

Now showing 1 - 3 of 3