Návrh řízení plazmové depozice tenkých vrstev

Abstract
Tato práce se zabývá kompletním návrhem a realizací řízení vakuové depoziční komory. Klade si za cíl co nejvíce zmapovat problematiku a navrhnout elektronické řízení, které bude možné snadno přizpůsobovat konkrétním požadavkům výzkumné činnosti v oblasti nanomateriálů a tenkých struktur.
This thesis focuses on the complete design and implementation of control for a vacuum deposition chamber. Its objective is to comprehensively explore the issues and propose electronic control that can be easily adapted to the specific demands of research activities in the field of nanomaterials and thin structures.
Description
Subject(s)
RF PACVD
Citation
ISSN
ISBN