Fotokatalytické vlastnosti plazmově připravovaných tenkých vrstev TiO2
Title Alternative:Photocatalytic properties of plasma-prepared TiO2 thin films
Loading...
Date
2012
Authors
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
Technická Univerzita v Liberci
Abstract
The aim of this thesis is to create a photocatalytic TiO2 layers by low pressure plasma-chemical vapor deposition (PECVD). Deposited layers were treated by heat and examine the effect of temperature on activity decomposition of organic matter Acid Orange 7. Further, do research on the influence of heat treatment on surface morphology change of deposited TiO 2 layers. Bachelor thesis is divided into three basic parts - the theoretical part, used experimental methods and apparatus, experimental results and conclusion
Cílem této bakalářské práce je vytvoření fotokatalytické vrstvy TiO2 metodou nízkotlaké plazmochemické depozice z plynné fáze (PECVD). Deponovanou vrstvu poté podrobit tepelnému zpracování a zkoumat vliv teploty na aktivitu rozkladu modelové organické látky Acid orange 7. Dále pak provést výzkum vlivu tepelného zpracování na změnu morfologie povrchu deponované vrstvy TiO2.Bakalářská práce je členěna na tři základní části ? Teoretickou část, Použité experimentální metody a přístroje, výsledky experimentů a závěr.
Cílem této bakalářské práce je vytvoření fotokatalytické vrstvy TiO2 metodou nízkotlaké plazmochemické depozice z plynné fáze (PECVD). Deponovanou vrstvu poté podrobit tepelnému zpracování a zkoumat vliv teploty na aktivitu rozkladu modelové organické látky Acid orange 7. Dále pak provést výzkum vlivu tepelného zpracování na změnu morfologie povrchu deponované vrstvy TiO2.Bakalářská práce je členěna na tři základní části ? Teoretickou část, Použité experimentální metody a přístroje, výsledky experimentů a závěr.
Description
katedra: KMT; rozsah: 44 s. (52 854)
Subject(s)
tio2, pecvd, ao7, afm, thin films, acid orange 7, deposition, tio2, pecvd, ao7, afm, tenké vrstvy, acid orange 7, depozice