Optimalizace plazmochemického nanášení tenkých vrstev za atmosférických podmínek

Title Alternative:Optimization of plasmachemical-thin layers under atmospheric conditions
Simple item page
dc.contributor.advisorKolouch, Aleš
dc.contributor.authorZich, Ladislav
dc.date2010
dc.date.accessioned2015-06-19
dc.date.available2015-06-19
dc.date.committed2010-05-27
dc.date.defense2010-06-17
dc.date.issued2010
dc.date.submitted2010-03-31
dc.degree.levelmgr
dc.descriptionkatedra: KMT; přílohy: 1 CD ROM; rozsah: 61cs
dc.description.abstractThe aim of my diploma thesis is design and build a device for deposition of larger area thin films under atmospheric pressure. First part includes an overwiev of plasma discharges, methods of plasma thin films deposition a properties of titanium dioxide films. In the experimental part I designed the device for large area thin films deposition, built it and optimized conditions for deposition of TiOx thin films. In the last part I evaluated properties of deposited thin films.en
dc.description.abstractÚkolem mé diplomové práce bylo navrhnout a postavit zařízení pro nanášení tenkých vrstev na větší plochu za atmosférického tlaku. První část obsahuje přehled plazmových výbojů, metod nanášení tenkých vrstev pomocí plazmatu a vlastností tenkých vrstev oxidů titanu. V experimentální části jsem navrhl zařízení pro nanášení tenkých vrstev na velké plochy, toto zařízení postavil a optimalizoval podmínky pro depozici tenkých vrstev oxidů titanu. V poslední části jsem vyhodnotil vlastnosti nanesených vrstev.cs
dc.formattext
dc.identifier.urihttps://dspace.tul.cz/handle/15240/9734
dc.language.isocs
dc.publisherTechnická Univerzita v Libercics
dc.subjectplasma discharge at atmospheric pressureen
dc.subjecttitanium oxideen
dc.subjectthin layersen
dc.subjectplasma depositionen
dc.subjectplazmový výboj za atmosférického tlakucs
dc.subjectoxid titanucs
dc.subjecttenké vrstvycs
dc.subjectplazmová depozicecs
dc.subject.verbisthin filmsen
dc.titleOptimalizace plazmochemického nanášení tenkých vrstev za atmosférických podmínekcs
dc.title.alternativeOptimization of plasmachemical-thin layers under atmospheric conditionsen
dc.typeThesis
local.departmentKMTcs
local.facultyFakulta strojnícs
local.identifier.stag19320
local.identifier.verbis438545
local.note.administratorsoprava_A
local.verbis.aktualizace2019-10-05 06:02:08cs
local.verbis.studijniprogramKMT Strojní inženýrství/Strojírenská technologiecs
Files
Original bundle
Now showing 1 - 1 of 1
Thumbnail Image
Name:
mgr_19320.pdf
Size:
8.7 MB
Format:
Adobe Portable Document Format
Description:
kvalifikační práce
Download
Collections
Fakulta strojní