Optimalizace plazmochemického nanášení tenkých vrstev za atmosférických podmínek
Title Alternative:Optimization of plasmachemical-thin layers under atmospheric conditions
Loading...
Date
2010
Authors
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
Technická Univerzita v Liberci
Abstract
The aim of my diploma thesis is design and build a device for deposition of larger area thin films under atmospheric pressure. First part includes an overwiev of plasma discharges, methods of plasma thin films deposition a properties of titanium dioxide films. In the experimental part I designed the device for large area thin films deposition, built it and optimized conditions for deposition of TiOx thin films. In the last part I evaluated properties of deposited thin films.
Úkolem mé diplomové práce bylo navrhnout a postavit zařízení pro nanášení tenkých vrstev na větší plochu za atmosférického tlaku. První část obsahuje přehled plazmových výbojů, metod nanášení tenkých vrstev pomocí plazmatu a vlastností tenkých vrstev oxidů titanu. V experimentální části jsem navrhl zařízení pro nanášení tenkých vrstev na velké plochy, toto zařízení postavil a optimalizoval podmínky pro depozici tenkých vrstev oxidů titanu. V poslední části jsem vyhodnotil vlastnosti nanesených vrstev.
Úkolem mé diplomové práce bylo navrhnout a postavit zařízení pro nanášení tenkých vrstev na větší plochu za atmosférického tlaku. První část obsahuje přehled plazmových výbojů, metod nanášení tenkých vrstev pomocí plazmatu a vlastností tenkých vrstev oxidů titanu. V experimentální části jsem navrhl zařízení pro nanášení tenkých vrstev na velké plochy, toto zařízení postavil a optimalizoval podmínky pro depozici tenkých vrstev oxidů titanu. V poslední části jsem vyhodnotil vlastnosti nanesených vrstev.
Description
katedra: KMT; přílohy: 1 CD ROM; rozsah: 61
Subject(s)
plasma discharge at atmospheric pressure, titanium oxide, thin layers, plasma deposition, plazmový výboj za atmosférického tlaku, oxid titanu, tenké vrstvy, plazmová depozice