Tvorba povlakovacího zařízení na principu PVD
Loading...
Date
Authors
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
Abstract
Tato práce popisuje principy povlakování tenkých vrstev. Na základěvhodného principu je zde dále popsána výroba zařízení napovlakování tenkých vrstev.V sestaveném zařízení bylo deponováno několik vrstev, které bylynásledně podrobeny testům a srovnány mezi sebou.Toto zařízení bylo vytvořeno z důvodu názorených ukázek povlakováníve výuce technologií povrchových úprav.
This report describes the principles of thin film coating. Based ona suitable principle, the production of thin film coating equipmentis further described here.Several layers will be deposited in the assembled device, which willthen be tested and compared with each other.This device will be used to illustrate the coating in teaching.
This report describes the principles of thin film coating. Based ona suitable principle, the production of thin film coating equipmentis further described here.Several layers will be deposited in the assembled device, which willthen be tested and compared with each other.This device will be used to illustrate the coating in teaching.
Description
Subject(s)
PVD, plazma komora, PLC, PVD, plasma chamber, PLC