dc.contributor	Kozák Martin, RNDr. Ph.D. : 66646
dc.contributor.advisor	Žídek Karel, RNDr. Ph.D. : 65590
dc.contributor.author	Lukeš, Jakub
dc.date.accessioned	2022-11-21T07:32:27Z
dc.date.available	2022-11-21T07:32:27Z
dc.date.committed	2022-5-16
dc.date.defense	2022-06-16
dc.date.issued	2021-10-12
dc.date.submitted	2021-10-12
dc.date.updated	2022-6-16
dc.degree.level	Ing.
dc.description.abstract	Diplomová práce se zabývá generací druhé harmonické a jejím využitím při charakterizaci optických tenkých vrstev.Teoretická část je rozdělena na tři kapitoly. První kapitola se věnuje nelineární optice, konkrétně jevu generace druhé harmonické. Druhá kapitola je úvodem do problematiky laserem indukovaných změn v materiálu a třetí kapitola se zabývá optickými tenkými vrstvami.V experimentální části je popsáno pozorování zesílení druhé harmonické na vzorcích SiOxNy během jednotlivých měření. Toto zesílení je dále podrobeno zkoumání z hlediska vlivu intenzity dopadajícího záření, materiálu substrátu a stechiometrie vrstvy. Dále je zde zkoumána závislost účinnosti generace druhé harmonické na různých parametrech vrstvy jako je poměr kyslíku a dusíku ve vrstvě, tloušťka dané vrstvy, či typ substrátu, na kterém je vrstva deponována. Z měření vyplývá, že vrstvy SiOxNy na substrátech BK7 generují druhou harmonickou dominantně na rozhraní mezi vrstvou a substrátem.V experimentální části jsou dále diskutovány problémy spjaté jak se samotným měřením, tak i s následným vyhodnocováním dat a interpretací výsledků.	cs
dc.description.abstract	This diploma thesis is focused on the second harmonic generation and its application in optical thin film characterization.The theoretical part is divided into three chapters. The first chapter is devoted to nonlinear optics, specifically to the second harmonic generation phenomenon. The second chapter is an introduction to laser-induced damage threshold (LIDT) and the third chapter deals with optical thin films.The experimental part describes the observation of enhancement of second harmonic generation during measurements of SiOxNy samples. This enhancement is further investigated in terms of the effect of incident radiation intensity, substrate material, and layer stoichiometry. Furthermore, there we studied the dependence of the efficiency of the second harmonic generation on various parameters of the thin film such as the ratio between oxygen and silicon in the layer, the thickness of the layer, or the type of substrate, on which is the layer deposited. The measurements indicate that the SiOxNy thin films on a BK7 substrate generate the second harmonic mainly at the interface between the layer and the substrate.In the experimental part, the problems connected to measurements themselves and issues with the evaluation of data are also discussed.	en
dc.description.mark	1
dc.format	66
dc.format.extent	-
dc.identifier.signature	V 202204112
dc.identifier.uri	https://dspace.tul.cz/handle/15240/166249
dc.language.iso	cs
dc.relation.isbasedon	renewcommandlabelenumi[theenumi] beginarab item Y.R. Shen, Fundamentals of Sum-Frequency Spectroscopy (Cambridge University Press, 2016). item J.J.H. Gielis, P.M. Gevers, I.M.P. Aarts, M.C.M. van de Sanden, and W.M.M. Kessels, J. Vac. Sci. Technol. A Vacuum, Surfaces, Film. tp26tp, 1519 (2008). item Koskinen, K., et al. Enhancement of bulk second-harmonic generation from silicon nitride films by material composition.~Optics letters~tp42tp.23,~~5030-5033 (2017). endarab
dc.rights	Vysokoškolská závěrečná práce je autorské dílo chráněné dle zákona č. 121/2000 Sb., autorský zákon, ve znění pozdějších předpisů. Je možné pořizovat z něj na své náklady a pro svoji osobní potřebu výpisy, opisy a rozmnoženiny. Jeho využití musí být v souladu s autorským zákonem https://www.mkcr.cz/assets/autorske-pravo/01-3982006.pdf a citační etikou https://knihovna.tul.cz/document/26	cs
dc.rights	A university thesis is a work protected by the Copyright Act. Extracts, copies and transcripts of the thesis are allowed for personal use only and at one?s own expense. The use of thesis should be in compliance with the Copyright Act. https://www.mkcr.cz/assets/autorske-pravo/01-3982006.pdf and the citation ethics https://knihovna.tul.cz/document/26	en
dc.rights.uri	https://knihovna.tul.cz/document/26
dc.rights.uri	https://www.mkcr.cz/assets/autorske-pravo/01-3982006.pdf
dc.subject	Optická tenká vrstva	cs
dc.subject	Generace druhé harmonické	cs
dc.subject	Charakterizace tenkých vrstev	cs
dc.subject	Elektrická susceptibilita	cs
dc.subject	Si3N4 SiOxNy	cs
dc.subject	Fotogalvanický efekt	cs
dc.subject	Optical thin film	en
dc.subject	Second harmonic generation	en
dc.subject	Thin film characterization	en
dc.subject	Electric susceptibility	en
dc.subject	Si3N4	en
dc.subject	SiOxNy	en
dc.subject	Photogalvanic effect	en
dc.title	Generace druhé harmonické na tenkých vrstvách	cs
dc.title	Second-harmonic generation in thin films	en
dc.type	diplomová práce	cs
local.degree.abbreviation	Navazující
local.degree.discipline	AVI-N
local.degree.programme	Aplikované vědy v inženýrství
local.degree.programmeabbreviation	N3901
local.department.abbreviation	NTI
local.faculty	Fakulta mechatroniky, informatiky a mezioborových studií	cs
local.faculty.abbreviation	FM
local.identifier.author	M20000196
local.identifier.stag	43036
local.identifier.verbis
local.identifier.verbis	4f2ae884-b871-4184-a2db-ccc92f8f379e
local.note.administrators	automat
local.note.secrecy	Povoleno ZverejnitPraci Povoleno ZverejnitPosudky
local.poradovecislo	4112

Generace druhé harmonické na tenkých vrstvách

Files

Original bundle

Collections